应用于光刻机掩模台的自适应前馈控制

控制工程 ›› 2021, Vol. 28 ›› Issue (6) : 1069-1074.

应用于光刻机掩模台的自适应前馈控制

作者信息 +

Adaptive Feedforward Control for Reticle Stage of Lithography

Author information +

文章历史 +

导出引用

{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2021, 28(6): 1069-1074

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2021, 28(6): 1069-1074

中图分类号：

列表( 原文顺序 | 文献年度倒序 | 文中引用次数倒序 ) 可视化分析

编委：

主编：

责任编辑：

编辑:

Accesses

Citation

Detail

段落导航